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徐院士轻轻拭去眼角泛出的泪水,没想到他有生之年能看到3nm的光刻机出现,还是华国先做出来的。

一旁的罗甘看到徐院士的反应,有些愣愣的看向林曦月,“这是...成功了吗...”

林曦月笑着点点头,“嗯,成功了。”

随着她的宣布,研究室爆出一阵欢呼。

“老大!我们成功了!”

“我的天,我们真的做出来了!”

“3nm的光刻机,我看霉国还有什么话说!”

“对!谁稀罕他们的5nm光刻机啊!”

在众人的你一言我一语中,罗甘颤抖着手走上前,像是对待自己的恋人一般,轻轻地**那台冰冷的机器。

国外的光刻机技术一直都很发达,华国的光刻机技术落后他们大约20年的时间。

所以在光刻机这方面的技术,华国一直被捏住喉咙。

加上霉国近年来一直试图联系何国各个公司,阻碍他们出口光刻机给华国。

因此在光刻机上的研发,迫在眉睫。

之前做出22nm的光刻机,已经足够让人兴奋的了。

虽然国外的技术超前,但是他们同样不得不在3nm的光刻机面前低头。

3nm是光刻机的最小工艺极限,或者说是euv光刻机的最小工艺极限。

最根本的原因来自于纳米光子工艺极限性,即使有多种技术来操纵光,euv光刻机的波长极限就是13.5nm。

并且半导体的主要材料是硅,然而硅原子直径大约是0.12nm。

10个硅原子排成一列的程度大约为1.2nm,所以想再突破3nm的光刻机,那就涉及到了操纵原子的境界。

或者再重新找到合适的波长,对于euv光刻机,3nm是目前的最大极限。

所以即使国外能造出5nm的光刻机,对于3nm的光刻机也无从下手。

这也是华国最好赶超的时候,大家都做不出来,那就等我们一点一点赶上来。

没想到就在今天,华国直接一跃从22nm飞到令国外头疼的3nm。

这如何不让人激动!

在他们测试的时候,已经有一队兵哥将研究室围的密不透风,一只苍蝇都别想飞出去。

路过的研究员看到这个场面一惊,这是发生什么事了?

之前22nm光刻机项目成功的时候也没有这种阵仗啊。

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